Bienvenue client !

Adhésion

Aide

Beijing Zhongke Renhua Technology Co., Ltd
Fabricant sur mesure

Produits principaux :

cep-online>Produits

Machine de lithographie directe DMD laser

Modèle
Nature du fabricant
producteurs
Catégorie de produit
Lieu d'origine
Vue d'ensemble
La machine de lithographie sans masque $R $N $R $n est un dispositif de technologie de lithographie qui ne nécessite pas l'utilisation d'une plaque de masque physique traditionnelle pour transférer des graphiques de circuit, mais plutôt une exposition de balayage directement sur le matériau photosensible via un faisceau lumineux de haute précision contrôlé par ordinateur pour former Le micrographe souhaité. Actuellement dans la fabrication microélectronique, micro et nanotraitement, MEMS、LED、 Il existe un large éventail d'applications dans des domaines tels que les biopuces.
Détails du produit

Le zml10a est un dispositif innovant de lithographie sans masque de qualité supérieure conçu pour les besoins de micro et Nano - usinage efficaces et précis. L'appareil utilise une source lumineuse LED de haute puissance et de haute uniformité, combinée à la technologie DLP, pour réaliser la fonction d'exposition guidée par la lumière jaune ou verte, qui fait vraiment « ce que vous voyez est ce que vous obtenez», améliorant considérablement la facilité d'utilisation et la contrôlabilité du processus. Sa structure de chemin optique et sa table de déplacement de moteur rectiligne de haute précision garantissent une précision d'exposition et une capacité de positionnement répétée, tout en étant équipée d'un système de mise au point automatique champ par champ pour caméra CCD, optimisant davantage la qualité d'image et la stabilité du processus. L'appareil prend en charge la commutation d'objectif électrique et la fonction de mise au point active laser, capable de répondre de manière flexible aux besoins de différents scénarios d'application. Sa conception compacte de miniaturisation de bureau permet non seulement d'économiser de l'espace, mais facilite également le déploiement dans les environnements de laboratoire ou de production. En outre, le zml10a est équipé d'une interface logicielle intuitive et facile à utiliser qui réduit considérablement le seuil de fonctionnement et permet même aux débutants de se lancer rapidement. Qu'il s'agisse de la préparation de structures métamatériaux, de motifs d'électrodes ou de micro et Nanostructures complexes telles que des puces microfluidiques, le zml10a offre un support fiable et est idéal pour les chercheurs scientifiques et les utilisateurs industriels.


Caractéristiques techniques

▲ miniaturisation du Bureau

▲ source lumineuse d'écriture LED haute puissance et haute uniformité

▲ exposition guidée par lumière jaune / verte, ce que vous voyez est ce que vous obtenez

▲ caméra CCD mise au point automatique image par image

▲ table de déplacement de moteur linéaire de haute précision

▲ interface logicielle facile à utiliser


Chemin optique loin de la structure diagramme

DMD激光直写光刻机




Principaux indicateurs


Indicateurs techniques clés
Source de lumière ultraviolette longueur d'onde centrale 405 nm
Uniformité d'exposition 90%
Largeur de ligne caractéristique minimale 0,5 um
Zone d'exposition de champ d'écriture unique 0,6 * 0,4 mm (@0,5 um)
Taux d'écriture 3mm^2/min (@0.5um)
configuration Edition de base Version professionnelle
Source de lumière Forte lumière LED: 405nm
Puce DMD DLP6500
Zone d'exposition à champ unique 0,6 * 0,4mm (@0.5um), 1,2 * 0,8mm (@0.8um)
2.4 * 1.6mm (@1.5um), 12 * 8mm (@8um)
appareil photo Caméra microscopique à grande surface cible (prise en charge des mesures dimensionnelles)
Précision de la gravure 1um 0,7um
Vitesse d'écriture 3mm²/min (@0.5um) 20mm²/min (@0.5um)
Table de sport Moteur linéaire de haute précision (précision de positionnement répétée ± 0.5um) mécanisme de nivellement, table rotative manuelle Moteur linéaire de haute précision (précision de positionnement répétée ± 0.5um) mécanisme de nivellement, table rotative électrique
Convertisseur d'objectif Commutation manuelle d'objectif Commutation d'objectif électrique
Groupe de modules focus Mise au point automatique des images CCD Mise au point active au laser
Support de la taille de la tranche de silicium 4 pouces 8 pouces


Cas d'application

DMD激光直写光刻机

DMD激光直写光刻机




DMD激光直写光刻机